1、预处理污染层
用软毛刷或气吹球轻扫表面,去除松散颗粒,避免划伤光栅。
2、化学清洗
试剂:专用中性洗涤剂(pH 6.5-7.5)与去离子水(电阻率≥18 MΩ·cm)。
操作:将洗涤剂按1:50稀释,用无尘棉签单向轻拭光栅表面,重复3次。
3、冲洗与干燥
垂直光栅刻线方向冲洗,避免水流冲击破坏微结构。
使用恒温(40-50℃)氮气枪吹干,防止水渍残留。
方法 | 原理 | 操作要点 |
---|---|---|
等离子清洗 | 通过高能离子轰击分解碳链分子 | - 功率≤100W,时间≤3分钟 - 氩气/氧气混合比4:1 |
紫外光清洗 | 185nm紫外光激发臭氧,氧化碳膜为CO₂/CO | - 多灯阵列覆盖(间距10cm) - 实时监测臭氧浓度(≤0.1ppm) |
1、擦拭标准化流程
工具:100%超细纤维布(ISO Class 5洁净室级别),浸润超纯水。
手法:单向单次擦拭(压力≤5N),禁止往复动作(摩擦系数>0.3会诱发静电吸附)。
2、存储环境控制
温度20±2℃,湿度40-60%RH,洁净度ISO Class 6以上。
建议存放于充氮密封柜,隔绝氧气减缓氧化(氧化速率:暴露空气>氮气环境3.7倍)。
性能参数优先级
衍射效率>90%(波长632.8nm测试)
基片粗糙度Ra<1nm(原子力显微镜检测)
电话
400-8617-808
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